従来の半導体デバイスのプロセスでは、大掛かりな装置が必要であり、消費されるエネルギーも大きく、使われる材料も生物や自然環境に影響を与えるものが少なくありません。われわれは、超音波によって発生するミスト（霧）を使って、省エネルギーで環境への負荷を極力抑えた新しい非真空プロセスの開発を行っています。

＜ミスト（霧）を使った薄膜作製技術＞
　超音波によって原材料溶液を霧状にして、ガラス、金属、シリコンなどの多種多様な組成の表面に薄膜形成を行います。超音波噴霧の最大の特徴は液滴サイズにあり、空中を浮遊できるほど小さな液滴を作り出すことで、ナノスケールで均一な薄膜形成が可能になります。また、通常の塗布技術では不可能な同種溶媒を用いた場合でも、溶媒の蒸発タイミングを高度に制御できるため、はじめに形成した膜にダメージを与えることなく積層構造を作り出すことが可能になります。このような特長を活かし各種半導体薄膜を形成し、光・電子デバイスの開発を行っています。

＜材料合成からダイレクトに光・電子デバイスへ＞
　超音波による霧の発生には液体の表面張力、密度、超音波の周波数を考慮した条件が必要です。そこで重要なのが、目的の材料が適切な溶媒に溶けていることです。われわれは半導体の薄膜作製技術と有機合成という異分野の知識を融合し、材料合成と薄膜形成プロセスを直結した、新しい概念の半導体デバイスプロセスの開発に取り組んでいます。

＜今後の展開＞
　ミストを使ってナノスケールで薄膜の物性を制御し、高性能な光・電子デバイスを実現するため、以下の課題に取り組んでいます。

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2015年度